科技藝術館
目前正在國立臺北藝術大學科技藝術館首檔活動為「2021大評圖—大學建築系畢業設計國際展覽 ( IEAGD)」, 吸引了賴清德副總統前來參觀, 同行者還有教育部高教司朱俊彰司長、文化部李靜慧政務次長、實踐大學丁斌首校長、立法委員吳思瑤女士與藝科中心戴嘉明主任等各界產官學多位貴賓。
特別值得一提的是, 這座新穎的科技藝術館是臺灣第一個結合跨域展演、科技研發、新創展業的專業場館。 此棟該建築最大的特色,是以鋼樑懸吊整棟建物,視覺上宛如漂浮於空中。未來主要作為融合教學、展演、研究與藝術實驗之全新場域,同時也結合藝術與大數據、雲端運算及人工智慧等科技。
這棟全新的科技藝術館為地上五層地下一層,樓層相關設置分別為:1F 演講廳(另有一間準備室)、研討室、Studio1、Studio2;2F 廣場、輕食區、大階梯、觀景臺;3F 展演廳、展覽室 4F 行政區;5F規劃有5間實驗室、1間整合模擬實驗室、駐館藝術家工作室,與未來跨域沙龍。
科技不但帶給現代人更便利的生活;科技與藝術的結合, 將提供給我們另外一種不同的視覺藝術盛宴。
該檔展覽於即日至10月31日,歡迎各界有興趣的觀眾前來參觀。
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